एलईडी एल्यूमीनियम प्रोफाइल के स्पॉट क्षरण की प्रकृति का विश्लेषण

इसे 6063 की रचना से देखा जा सकता हैएलईडी एल्यूमीनियम प्रोफ़ाइलयह सुनिश्चित करने के लिए कि Mg तत्व पूरी तरह से मजबूतीकरण चरण Mg2Si बनाता है, मिश्र धातु संरचना तैयार करते समय Si तत्व की उचित मात्रा आमतौर पर कृत्रिम रूप से अत्यधिक होती है। क्योंकि जैसे-जैसे सी सामग्री बढ़ती है, मिश्र धातु (एलईडी एल्यूमीनियम प्रोफाइल) के दाने महीन हो जाते हैं और गर्मी उपचार प्रभाव बेहतर होता है। लेकिन दूसरी ओर, अतिरिक्त सी का भी नकारात्मक प्रभाव पड़ता है, जिससे मिश्र धातु (एलईडी एल्यूमीनियम प्रोफाइल) की प्लास्टिसिटी कम हो जाती है और संक्षारण प्रतिरोध बिगड़ जाता है। अनुसंधान से पता चलता है कि अतिरिक्त Si न केवल मुक्त Si चरण बना सकता है, बल्कि मैट्रिक्स के साथ α चरण (Al12Fe2Si) और β चरण (Al9Fe3Si2) भी बना सकता है। इस प्रकार, मुक्त Si चरण, α चरण (Al12Fe2Si), β चरण (Al9Fe3Si2) और अन्य कैथोड चरण कण और एनोड चरण Mg2Si कण हैं। α चरण और β चरण का मिश्र धातु के संक्षारण गुणों पर बहुत प्रभाव पड़ता है, विशेष रूप से β चरण मिश्र धातु के संक्षारण गुणों को काफी कम कर सकता है। स्थानों पर अवशेषों के घटक मुख्य रूप से मुक्त Si चरण और AlFeSi चरण हैं। यह भी पाया गया है कि अवशेषों पर क्लोरीन तत्व भी अधिशोषित है, जिससे पता चलता है कि संक्षारण प्रक्रिया में सीएल- शामिल है। संक्षारण क्षेत्र में जस्ता तत्व की मात्रा मैट्रिक्स की तुलना में बहुत अधिक है, जो दर्शाता है कि मिश्र धातु में अशुद्धता तत्व जस्ता भी संक्षारण प्रक्रिया में भाग लेता है।

एनोडाइजिंग प्रक्रिया में, एनोडिक चरण Mg2Si मिश्र धातु का पिटिंग संक्षारण स्रोत है। एनोडिक ऑक्सीकरण क्षार सफाई के दौरान, Mg2Si कणों को संक्षारण गड्ढे बनाने के लिए अधिमानतः विघटित किया जाता है, जिसमें मैग्नीशियम समाधान में घुल जाता है और सिलिकॉन एल्यूमीनियम मिश्र धातु और एलईडी एल्यूमीनियम प्रोफ़ाइल पर रहता है। जब दानों पर जंग के गड्ढे जमा हो जाएंगे तो दानों का रंग गहरा हो जाएगा। सल्फ्यूरिक एसिड न्यूट्रलाइजेशन प्रक्रिया के दौरान सिलिकॉन को आसानी से नहीं हटाया जाता है, इसलिए स्पॉट संक्षारण गड्ढों के तल पर सिलिकॉन की मात्रा अन्य क्षेत्रों की तुलना में अधिक होती है।

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